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肼硼烷(N2H4BH3,HB)含氢量高达15.4 wt％,且常温下稳定,被认为是最有前景的储氢材料之一[1-5].本工作中,我们采用简单的共还原法在室温下合成了高度分散粒径约为4.0 nm的氧化钼修饰的NiPd纳米粒子(NiPd-MoOxNPs).
氧化钼修饰的NiPd纳米催化剂高效催化肼硼烷产氢
【摘 要】
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肼硼烷(N2H4BH3,HB)含氢量高达15.4 wt％,且常温下稳定,被认为是最有前景的储氢材料之一[1-5].本工作中,我们采用简单的共还原法在室温下合成了高度分散粒径约为4.0 nm的氧
【机 构】
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江西师范大学化学化工学院,江西南昌,330022
【出 处】
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中国化学会第30届学术年会
【发表日期】
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2016年期
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