【摘 要】
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采用磁控溅射方法利用镶嵌靶材制备非晶TbDyFe 薄膜,然后分别在150,300,450,550 ℃ ℃ ℃ ℃ 下退火,研究了热处理对TbDyFe 薄膜性能的影响。通过X 射线,SEM,VSM 测量了
【机 构】
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钢铁研究总院功能材料研究所,北京 100081
【出 处】
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第十二届全国青年材料科学技术研讨会
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采用磁控溅射方法利用镶嵌靶材制备非晶TbDyFe 薄膜,然后分别在150,300,450,550 ℃ ℃ ℃ ℃ 下退火,研究了热处理对TbDyFe 薄膜性能的影响。通过X 射线,SEM,VSM 测量了薄膜的结构及性能,结果 显示,550 ℃温度下退火的样品出现RFe2 相。随着退火温度的升高,晶粒逐渐长大,空洞网络变短而宽。薄膜的磁特性显示,其矫顽力及矩磁比均在出现RFe2 相的550 ℃退火的样品中达到最大值。随着退火温 度的增加,薄膜的易磁化轴从垂直膜面方向向平行膜面方向转动。
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