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该文报告用于中国原子能科学研究院“天光一号”ＫｒＦ激光核聚变实验装置的Ａｌ＜，２＞Ｏ＜，３＞／ＭｇＦ＜，２＞光学增透膜与ＨｆＯ＜，２＞／ＳｉＯ＜，２＞光学高反膜的实验研究成果。内容包括膜实选择、膜系结构、基片加工、镀膜条件、破坏阈值等。实验结果表明，ＨｆＯ＜，２＞／ＳｉＯ＜，２＞垂直高反光学膜，在熔融石英基底上与在Ｋ９光学玻璃基底上，通过使用λ／２光学附加层可使其破坏阈值分别提高了８５℅与５０℅；４００℃的热处理导致该高反膜在熔融石英基底上破坏阈值下降１０℅，在Ｋ９光学玻璃基底上，破坏阈值提高了１０℅；ＨｆＯ＜，２＞／ＳｉＯ＜，２＞垂直高反射光学膜与Ａｌ＜，２＞Ｏ＜，３＞／ＭｇＦ＜．２＞垂直增透膜的破坏阈值分别已经达到了１．７１Ｊ／ｃｍ＜’２＞与１．７４Ｊ／ｃｍ＜’２＞。