原子层沉积技术构筑高性能锂离子电池的研究

来源 :第17届全国固态离子学学术会议暨新型能源材料与技术国际研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：chenyanzhao12

【摘要】

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原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)作为20世纪90年代中期才逐步成熟起来的技术,其具备的显著优势使得其它技术难以匹敌,例如:这种技术所沉积的样品具有极佳的均匀性、

【作者】

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李喜飞李德军孙学良

【机构】

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天津师范大学能源与材料工程中心,天津市西青区宾水西道393号,300387;天津师范大学物理与材料科学学院,天津市西青区宾水西道393号,300387加拿大西安大略大学机械与材料工程系,1151Ric

【出处】

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第17届全国固态离子学学术会议暨新型能源材料与技术国际研讨会

【发表日期】

：

2014年8期

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原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)作为20世纪90年代中期才逐步成熟起来的技术,其具备的显著优势使得其它技术难以匹敌,例如:这种技术所沉积的样品具有极佳的均匀性、高覆盖率和原子层厚度精度的可控薄膜沉积过程等,所以ALD技术广泛应用于高性能锂离子电池的设计与改性.

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