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原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)作为20世纪90年代中期才逐步成熟起来的技术,其具备的显著优势使得其它技术难以匹敌,例如:这种技术所沉积的样品具有极佳的均匀性、高覆盖率和原子层厚度精度的可控薄膜沉积过程等,所以ALD技术广泛应用于高性能锂离子电池的设计与改性.