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会议论文
用于碲镉汞液相外延的碲锌镉衬底位错密度的研究
用于碲镉汞液相外延的碲锌镉衬底位错密度的研究
来源 :2003年全国光电技术学术交流会暨第十六届全国红外科学技术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yubowen251234
【摘 要】
:
平均位错密度(EPD)是评价晶体质量的重要指标之一,衬底的位错密度直接影响到外延膜的位错密度,进而影响到器件的性能.
【作 者】
:
董瑞清
周立庆
刘兴新
王迎
桂春辉
【机 构】
:
华北光电技术研究所(北京)
【出 处】
:
2003年全国光电技术学术交流会暨第十六届全国红外科学技术交流会
【发表日期】
:
2003年期
【关键词】
:
碲镉汞
液相外延
碲锌镉衬底
平均位错密度
器件的性能
晶体质量
外延膜
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平均位错密度(EPD)是评价晶体质量的重要指标之一,衬底的位错密度直接影响到外延膜的位错密度,进而影响到器件的性能.
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