用于碲镉汞液相外延的碲锌镉衬底位错密度的研究

来源 :2003年全国光电技术学术交流会暨第十六届全国红外科学技术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yubowen251234
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平均位错密度(EPD)是评价晶体质量的重要指标之一,衬底的位错密度直接影响到外延膜的位错密度,进而影响到器件的性能.
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