高密度材料温压工艺的关键参数

来源 :'97中国粉末冶金学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:netboy1
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
其他文献
会议
刻蚀机是半导体制造的关键设备之一,在刻蚀过程中真空系统是最关键的,因为它影响一些与气体流量和压力有关的等离子体参数。用于刻蚀的一个典型的高密度等离子体真空系统,在
对高锰酸钾去除饮用水中微量有机污染物的机理进行了研究,结果认为高锰酸钾除了传统的氧化作用外,在中条件下生成的水合二氧化锰还有催化氧化和吸附作用,后者大大提高了高锰酸钾
会议
该文为中国研制高锰酸钾的半成品阵酸钾四十多年来对其工艺技术改革的经历作了简要的综述。