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研究了双会切磁场中大回旋电子注产生的机理.通过拉格朗日方程求解了电子注的运动方程及沿轴的角向速度、引导中心半径、拉莫尔半径等参量表达式.分析了双会切磁场中电子注参量的影响因素,得到了用于改进双磁会切电子枪性能的一般性结论。
双会切磁场大回旋电子注的产生
【摘 要】
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研究了双会切磁场中大回旋电子注产生的机理.通过拉格朗日方程求解了电子注的运动方程及沿轴的角向速度、引导中心半径、拉莫尔半径等参量表达式.分析了双会切磁场中电子注参
【机 构】
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中国科学院电子学研究所,北京,100080
【出 处】
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第九届真空技术应用学术年会
【发表日期】
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2006年期
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