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本文采用脉冲直流磁控溅射法,固定功率1500 W、气压0.39 Pa,Ar流量30 sccm,在玻璃基底上制备了氮化硅薄膜。利用椭偏仪和摩擦磨损仪研究了N2流量对氮化硅薄膜光学和力学性能的影响。结果表明,随着N2流量的增加氮化硅薄膜的折射由2.48下降至1.95,消光系数由0.03下降至0。摩擦磨损测试结果表明N2和Ar流量比为l时制备的氮化硅薄膜的耐磨性最优。