氮化硅薄膜光学和力学性能研究

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【摘要】

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本文采用脉冲直流磁控溅射法,固定功率1500 W、气压0.39 Pa,Ar流量30 sccm,在玻璃基底上制备了氮化硅薄膜。利用椭偏仪和摩擦磨损仪研究了N2流量对氮化硅薄膜光学和力学性能

【作者】

：

杨幼然黄星烨余刚

【机构】

：

中国建筑材料科学研究总院; 国家玻璃深加工工程技术中心; 绿色建筑材料国家重点实验室;

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

氮化硅薄膜折射率消光系数耐磨性能

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本文采用脉冲直流磁控溅射法,固定功率1500 W、气压0.39 Pa,Ar流量30 sccm,在玻璃基底上制备了氮化硅薄膜。利用椭偏仪和摩擦磨损仪研究了N₂流量对氮化硅薄膜光学和力学性能的影响。结果表明,随着N₂流量的增加氮化硅薄膜的折射由2.48下降至1.95,消光系数由0.03下降至0。摩擦磨损测试结果表明N₂和Ar流量比为l时制备的氮化硅薄膜的耐磨性最优。

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