【摘 要】
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文中利用磁控溅射技术在45钢基体上制备了单质W膜,厚约2微米。利用扫描电子显微镜观察了其表面和截面形貌,用x射线衍射仪分析了W膜的相结构,用X射线应力仪测量了W膜表面的残
【机 构】
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装甲兵工程学院装备再制造技术国防科技重点实验室,北京 100072
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文中利用磁控溅射技术在45钢基体上制备了单质W膜,厚约2微米。利用扫描电子显微镜观察了其表面和截面形貌,用x射线衍射仪分析了W膜的相结构,用X射线应力仪测量了W膜表面的残余应力,并用纳米压痕仪测量了W膜的纳米硬度和弹性模量。其结果表明：W膜表面光滑致密,与基体结合较好。W膜具有体心立方结构,其具有择优生长,密排面为(110)和(220)。W膜表面存在一定的残余压应力,其值为-169MPa。W膜的纳米硬度和弹性模量分别为15.22GPa,176.64GPa。W膜具有很好的防护和力学性能。
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