RGD掺杂聚吡咯膜修饰铟锡氧化物微电极:一种电子学系统和细胞生物学系统间的仿生耦合界面

来源 :2015年中国生物医学工程联合学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qq793053
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构建一种RGD掺杂聚吡咯膜修饰的铟锡氧化物(PPy/RGD-ITO)微电极,验证其作为电子学检测系统和细胞生物学系统间耦合界面的适宜性.ITO微电极采用光刻技术制备.以RGD多肽作为掺杂剂,通过电化学聚合方式在ITO微电极表面沉积PPy/RGD膜制备PPy/RGD-ITO微电极.通过人肺癌细胞株A549铺展、粘附及增殖实验考察PPy/RGD膜细胞生物相容性.以PPy/RGD-ITO微电极作为电子学系统传感界面,通过电化学阻抗谱技术对A549细胞增殖及天然药物分子重楼皂苷I的细胞毒性进行检测.结果表明,PPy/RGD膜能有效地支持A549细胞的铺展、粘附和增殖.PPy/RGD-ITO作为电子系统传感界面可解析细胞增殖过程中细胞质膜电容、细胞-细胞间隙电阻、细胞-聚吡咯膜间隙电阻变化,同时可定量分析重楼皂苷I的浓度与细胞毒性间的关系.
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