【摘 要】
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化学增幅型光刻胶主要包含光产酸剂和成膜树脂,光产酸剂通常为小分子化合物,它与作为成膜树脂的聚合物在尺寸上存在固有的不兼容性,容易造成相分离以及后烘过程中的酸迁移问
【机 构】
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北京师范大学化学学院,北京100875
【出 处】
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中国感光学会2017年学术年会暨第九届五次理事会
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化学增幅型光刻胶主要包含光产酸剂和成膜树脂,光产酸剂通常为小分子化合物,它与作为成膜树脂的聚合物在尺寸上存在固有的不兼容性,容易造成相分离以及后烘过程中的酸迁移问题,影响成像图形的分辨率,为了解决这一问题,可采用聚合物光产酸剂.以对苯乙烯磺酸钠和甲基丙烯酸酯单体通过自由基聚合反应得到多元共聚物,进一步与鎓盐卤化物进行离子交换反应得到含鎓盐光产酸基团的聚合物光产酸剂.它在248-nm处的光透明性较好,可用于深紫外光刻胶.采用KrF激光步进曝光设备对聚合物光产酸剂和成膜树脂组成的二组份化学增幅型光致抗蚀剂的成像表现进行了评价,在45mJ·cm-2曝光量下,获得了线宽分辨率为0.175μm的高质量正性光刻图形.
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