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为获得可控织构的电沉积铜层,本文在焦磷酸盐、恒电流电沉积体系下制备了铜镀层,对镀层进行XRD衍射分析,探讨了电流密度、镀层厚度对镀层晶面取向指数的影响,提出了在该体系下获得(111)、(200)择优取向的优化方案。
焦磷酸盐体系电沉积铜的择优取向研究
【摘 要】
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为获得可控织构的电沉积铜层,本文在焦磷酸盐、恒电流电沉积体系下制备了铜镀层,对镀层进行XRD衍射分析,探讨了电流密度、镀层厚度对镀层晶面取向指数的影响,提出了在该体系
【机 构】
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钢铁研究总院粉末冶金研究室,北京,100081
【出 处】
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第7届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛
【发表日期】
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2008年期
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