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研究了电沉积Ni-B合金工艺中氯化镍,硼氢化钠,乙二胺,酒石酸钾钠,稳定剂及电流密度,温度对镀层中硼含量和镀速的影响。结果表明,控制适当的镀液成分和工艺条件,可获得含硼量为3-4％的镀层,镀速在20μm/h左右。
电沉积Ni-B合金工艺研究
【摘 要】
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研究了电沉积Ni-B合金工艺中氯化镍,硼氢化钠,乙二胺,酒石酸钾钠,稳定剂及电流密度,温度对镀层中硼含量和镀速的影响。结果表明,控制适当的镀液成分和工艺条件,可获得含硼量
【机 构】
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沈阳理工大学环境与化学工程学院 辽宁沈阳 110045
【出 处】
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全国第十一届轻合金加工学术年会
【发表日期】
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2000年期
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