【摘 要】
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正电子在球磨后TiC粉末中同时发生界面捕获态和晶内自由态两种湮没方式,但随着球磨时间增加,界面捕获态湮没发生几率增加,晶内自由态湮没发生几率减少;同时第二类缺陷尺寸增大,数量增多;但过长时间的球磨会使第二类缺陷尺寸增大幅度有所减小.在球磨TiC粉末中用高分辨电镜观察到了尺度为1nm量级的形变畴,并存在堆垛层错、晶格畸变等缺陷.
【机 构】
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华中理工大学模具技术国家重点实验室,武汉,430074
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正电子在球磨后TiC粉末中同时发生界面捕获态和晶内自由态两种湮没方式,但随着球磨时间增加,界面捕获态湮没发生几率增加,晶内自由态湮没发生几率减少;同时第二类缺陷尺寸增大,数量增多;但过长时间的球磨会使第二类缺陷尺寸增大幅度有所减小.在球磨TiC粉末中用高分辨电镜观察到了尺度为1nm量级的形变畴,并存在堆垛层错、晶格畸变等缺陷.
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