分子印迹聚合物膜的制备及对氨基吡啶位置异构体的选择性透过性质

来源 :中国化学会第16届反应性高分子学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wangshuanghong2009

【摘要】

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　　本文通过将水辅助成膜法与分子印迹技术相结合，以苯乙烯-丙烯腈共聚物(SAN)为基质，以化学修饰的具有三嗪结构的SAN(mSAN)为识别组分，以2-氨基吡啶(2-Apy)为模板分子，制备了分

【作者】

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余竹芳陆燕张强李晨曦

【机构】

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功能高分子材料教育部重点实验室,南开大学高分子化学研究所,天津300071天津理工大学材料科学与工程学院,天津300191

【出处】

：

中国化学会第16届反应性高分子学术研讨会

【发表日期】

：

2012年7期

【关键词】

：

分子印迹聚合物膜制备工艺结构表征氨基吡啶

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　　本文通过将水辅助成膜法与分子印迹技术相结合，以苯乙烯-丙烯腈共聚物(SAN)为基质，以化学修饰的具有三嗪结构的SAN(mSAN)为识别组分，以2-氨基吡啶(2-Apy)为模板分子，制备了分子印迹膜。利用扫描电子显微镜(SEM)表征了印迹膜的形貌，并研究了印迹膜对氨基吡啶位置异构体的选择性透过性质。

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