【摘 要】
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为了沉积高质量的硬质薄膜,避免直流反应溅射出现的靶中毒和打火现象影响薄膜质量和色彩。采用中频反应磁控技术在不锈钢基体上沉积氮化锆薄膜。实验表明,当炉内氮分压为45％,
【机 构】
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河北农业大学机电工程学院,保定,071001
【出 处】
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华北地区第十六届热处理技术交流会暨河北省机械工程学会热处理分会第六届学术年会
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为了沉积高质量的硬质薄膜,避免直流反应溅射出现的靶中毒和打火现象影响薄膜质量和色彩。采用中频反应磁控技术在不锈钢基体上沉积氮化锆薄膜。实验表明,当炉内氮分压为45％,控制靶电压200 V,靶电流为25 A,逐步调节Ar／N2比例达到要求的真空炉内气氛浓度,可获得成分均匀,膜层致密,与基体结合牢固的金黄色氮化锆薄膜。
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