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机械刻划方式是目前制造某些大面积高精度衍射光栅母板的唯一方式，光栅刻划机的机械结构与控制技术决定了光栅刻划机刻划出的光栅的尺寸与精度。因此，光栅刻划机机械结构优化和控制系统研究是提高光栅性能的关键技术问题。光栅刻划机的定位精度和刻划系统运动特性是影响光栅性能的主要因素。本文运用CAE技术研究了刻划系统的机构及结构优化和分度系统的结构优化和控制方法，具体工作和结果如下：（1）分析了曲柄滑块式和圆弧过渡等速凸轮两种刻划机构的刀架的运动学特性。针对其缺陷，提出了两种实现刀架刻划过程中匀速且全程速度