【摘 要】
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通过磁控贱射法在玻璃基底上制备了厚度约为300 nm的氧化锌薄膜,室温下采用80 keVAu离子对该薄膜进行注入,注入剂量为2×1015/cm2。制备态及注入ZnO样品随后在氮气气氛下进行退火1小时,退火温度范围为100到700 oC。借助于X射线衍射谱仪、X射线光电子能谱仪、紫外-可见-近红外分光光度计、荧光分光光度计和原子力显微镜等多种测试分析手段研究了ZnO薄膜的结构、表面形貌、化学成分和光
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通过磁控贱射法在玻璃基底上制备了厚度约为300 nm的氧化锌薄膜,室温下采用80 keVAu离子对该薄膜进行注入,注入剂量为2×1015/cm2。制备态及注入ZnO样品随后在氮气气氛下进行退火1小时,退火温度范围为100到700 oC。借助于X射线衍射谱仪、X射线光电子能谱仪、紫外-可见-近红外分光光度计、荧光分光光度计和原子力显微镜等多种测试分析手段研究了ZnO薄膜的结构、表面形貌、化学成分和光学性质。研究结果表明:对于制备态的ZnO薄膜,高温退火会使得薄膜的结构得到了明显的改善。具体表现在:晶粒
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