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近年,随着水环境中的有机物污染日益加剧,半导体光催化技术作为最有前景的方法之一,受到越来越多的科研工作者的青睐。目前,TiO2是最为常见的半导体光催化剂,但其相对较大的禁带宽度(3.2eV),使得它不能利用太阳光中占很大比例的可见光。因此,开发新型的可见光型催化剂就成为当今光催化领域的热点。本文采用水热法制备钒酸银(Ag3VO4)颗粒,在此基础上,采用浸渍法合成了负载稀土金属(Nd,Ce)的Ag3VO4光催化粉体材料。利用手术刀刮涂法在FTO基底上得到Ag3VO4负载稀土金属(Nd,Ce)薄膜,以解决Ag3VO4粉体在水体系中难分离、回收的问题。同时,为了增加薄膜的粘附性,本文研究了PEG的添加问题。通过SEM,EDS,XRD,XPS及UV-vis吸收光谱等分析方法对Ag3VO4薄膜负载Nd、Ce前后进行表征。光催化降解实验以罗丹明B(RhB)作降解底物,并在可见光照射下,分别研究了Nd和Ce负载质量比对光催化降解活性的影响,而且研究了煅烧温度对Ag3VO4负载Ce薄膜的影响。结果表明:水热制备Ag3VO4的过程中,水热时间的增加有利于单一的单斜晶Ag3VO4相的生成,且水热时间为6h,出现单一的单斜晶Ag3VO4相。通过实验证实了PEG虽然增加薄膜的粘性,但会影响Ag3VO4薄膜光催化性能,制膜过程不适合添加PEG。Nd的负载量对Ag3VO4负载Nd薄膜的光催化性能影响很大,其最佳负载量为2wt%。Ag3VO4负载Ce薄膜中Ce以Ce3+和Ce4+两种氧化物形式存在。Ag3VO4负载Ce薄膜对可见光吸收增强, Ce负载量为4wt%的Ag3VO4薄膜禁带宽度为2.15eV。Ag3VO4负载Ce薄膜的光催化性能都优于纯Ag3VO4和P25薄膜,当Ce掺杂量为4wt%时,Ag3VO4负载Ce薄膜活性最好。可见光照5h,被降解的RhB达到95%。薄膜最佳煅烧温度为300℃。