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本文采用反应性磁控射频溅射法，在不同的氧分压下制备了NiOx膜，研究了其特性和变色机理。XRD结构分析表明，所制备的NiOx膜为多晶结构，溅射氧分压影响NiOx膜的优先生长方向。XPS研究表明，溅射制备的NiOx薄膜的主要成份为Ni、O，并且是富氧的非理想配比薄膜。膜中有大量的Ni空位存在，导致Ni产生了混合价态。比较了漂白态和着色态的XPS图，可知电致变色是由Ni2+()Ni3+的转变引起的。运用循环伏安法对NiOx薄膜的电变色过程进行了研究。我们还通过溶胶凝胶和射频反应性溅射两种方法制备了具有电致变色性能的TiO2薄膜，并研究了制备工艺对TiO2薄膜电致变色性能的影响。X-ray结构分析表明TiO2薄膜有较多的孔隙，具有非晶态或多晶态结构。通过循环伏安法分析，我们发现薄膜表现出较弱的阴极着色效应，可望在电致变色器件中用作对电极层。