近年来，微波放电等离子体已经被广泛应用于等离子体镀膜，刻蚀，表面清洗等方面。其中一个很重要的应用领域便是微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）。为了更好的理解微波放电等离子体中的反应过程，通过对MPCVD沉积过程中等离子体发射光谱的分析，来研究微波放电过程中的等离子体的特性显得尤为重要。利用微波等离子体发生装置产生等离子体。反应气体为氢气和甲烷。利用英国Andor公司生产的多道光谱仪对微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）金刚石膜沉积过程发射光谱进行实时采集。接着对采集到的谱线进行分析，得到等离子体的参量。研究在不同的沉积工艺下等离子体参量与工艺参量（微波功率、反应压强）变化之间的关系。研究内容包括：1.采用微波化学气相沉积装置激发甲烷与氢气体系等离子体，通过光学多道分析仪采集等离子体的发射光谱。对于甲烷气体，观察到的谱线有CH基团在389nm处和431nm处的两个光谱带。次甲基CH-的一处光谱带（420nm，421.14nm，422.2nm）。以及反应产物C2的swan带（516.5nm，550.2nm，554.0nm，558.5nm，563.5nm）。并研究其随微波功率以及反应压强变化的情况。结果表明，甲烷基团谱线强度随着微波功率的增加呈增长的趋势。而随着反应压强的增大先是增大，后减小。2.利用氢巴尔末系的三条谱线强度算出电子温度Te。并研究了电子温度Te和随微波功率以及反应压强变化的情况。结果显示：电子温度Te随着微波功率的增加呈增长的趋势，随反应压强的增加呈减小趋势。3.利用氢原子H线的多普勒展宽计算离子温度。可以看到，随着微波功率的增加，离子温度先增大后变小。随着工作气压的增加，离子温度同样也是先增加后变小。4.通过对氢原子H线型的分析，得到等离子体中的分子过程。结果表明，等离子体中的氢原子主要是由电子与氢分子碰撞引起的离解激发产生的。