随着电子技术的发展，电子设备的广泛应用，电磁辐射对人们生活的影响日益增加。电磁干扰的危害主要有两个方面：（1）导致电子设备产生噪音甚至是故障；（2）危害人类的身体健康。因此，屏蔽电磁辐射显得非常重要。很多电磁屏蔽材料被用来防止电磁辐射的干扰。在很多领域如高灵敏的医疗诊断设备、个人电子设备的显示屏、航天飞行器的窗户，要求材料既具有电磁屏蔽功能，又具有较高的可见光透射率。透明电磁屏蔽玻璃很好的符合了这些要求。本文的创新点：用磁控溅射的方法在室温下在载玻片衬底上制备了AZO／Ag／AZO三层膜和AZO／Ag／AZO／Ag／AZO五层膜，基于电磁屏蔽多层膜的光学薄膜设计矩阵法理论，对多层膜系进行设计计算，确定各层膜材料及膜厚的基本参数，为实验提供了理论依据，使镀膜玻璃具有高的可见光透射率和高的电磁屏蔽效能，研究了Ag纳米薄膜在室温大气条件下的氧化过程和机理。本文得出的主要结论如下：1)对于AZO／Ag／AZO三层膜系，当银膜的厚度为16nm，AZO膜的厚度为45nm时，膜系有最佳的光电、电磁性能，方块电阻为5．02Ω/sq，最大可见光透射率为86％，红外反射率为95％，电磁屏蔽效能为35dB（5．85-8．2GHz）。2)对于AZO／Ag／AZO／Ag／AZO五层膜系，当银膜的厚度为16nm，AZO膜的厚度为92nm时，膜系有最佳的光电、电磁性能，方块电阻为2．73Ω／sq，最大可见光透射率为70％，红外反射率为99％，电磁屏蔽效能为40dB（5．85-8．2GHz）。3)Ag纳米薄膜暴露在室温大气环境中会被逐渐氧化，光学和电学性能都发生了很大的变化，失去了良好的导电性能和对红外的高反射性能。Ag₂S和Ag₂SO₄先是点状分布在Ag膜表面，等Ag膜完全氧化后，形成连续致密的Ag₂S（含少量的Ag₂SO₄）薄膜。Ag纳米薄膜暴露在室温大气环境中氧化时，O₂开始只是化学吸附在薄膜表面，引起表面重构，没有Ag₂O生成。然后含S的小分子气体（如：H₂S，SO₂）也化学吸附在薄膜表面，引起表面重构。最后Ag纳米薄膜在O₂和这些含S的小分子气体的作用下被大量氧化成圆锥形柱状的Ag₂S和少量Ag₂SO₄颗粒。大气中的CO₂和N₂不会与Ag纳米薄膜反应。