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该论文的研究目的在于采用自组装技术制备对铜具有良好缓蚀功能的有序膜.同时对其形成机理以及影响自组装膜的质量和性能等因素进行了探讨,为选择合适的自组装体系、组装条件及成膜分子设计和合成提供依据.为自组装技术在金属腐蚀与防护领域的应用探索新途径.
铜表面缓蚀剂自组装膜的表征及电化学性能研究
【摘 要】
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该论文的研究目的在于采用自组装技术制备对铜具有良好缓蚀功能的有序膜.同时对其形成机理以及影响自组装膜的质量和性能等因素进行了探讨,为选择合适的自组装体系、组装条件
【机 构】
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山东大学
【出 处】
：
山东大学
【发表日期】
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2002年期
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