Mg掺杂NiO薄膜制备技术研究

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室温下NiO禁带宽度为3.6-4.0ev,与ZnO材料相比,尽管NiO的禁带宽度更大一点,但还是不能满足日盲紫外探测的需求。所以需要对NiO薄膜进行合理掺杂,使其禁带宽度增大,最好能够位于日盲光谱范围内。本论文通过理论研究,决定选择使用Mg对制备所得的纯净的NiO薄膜进行掺杂,使其禁带宽度增大、光谱响应位于日盲光谱范围内。为确认选择Mg进行掺杂能否达到预期效果,本论文在实验前使用Materials Studio软件对掺杂结果进行了模拟,并大致确定了为达到预期目的所需掺杂Mg的比例。本论文我们主要研究的步骤如下:(1)使用Materials Studio软件对掺杂结果进行了模拟研究,在理论上研究分析了Mg掺杂NiO薄膜后,获得的MgxNi1-xO薄膜的光学性质。(2)利用磁控溅射的方法制备未掺杂的NiO薄膜,并对未掺杂的NiO薄膜进行了结构特性、透射光谱、禁带宽度等方面的研究。(3)通过理论分析,我们选择了Mg元素对NiO薄膜进行掺杂,使其禁带宽度向“日盲”波段靠近,并对不同工艺条件下的MgxNi1-xO薄膜进行了结构特性、透射光谱及禁带宽度的特性研究。
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