进入21世纪，以信息技术、生物技术和新能源技术为代表的高科技产业迅速发展，已成为推动世界经济的最主要力量。特别是集成电路产业的崛起，不仅引起了现代信息技术的发展，而且为现代高科技产业注入了新鲜活力。时至今日，如何开发更先进的集成电路，已经成为各国厂商所瞩目的焦点。与此同时，如何完善集成电路的法律保护，也已成为各国政府和法学界所关注的重点课题之一。研制集成电路的过程主要集中在集成电路布图设计，布图设计应该说是决定集成电路成败的关键，其创作所需技术、成本、时间及资金都体现在该环节中。在激烈的集成电路技术竞争中，布图设计往往是投资者竞相追逐的最有价值对象。因此，近年来，侵犯集成电路布图设计权的纠纷成为集成电路行业中最为普遍的现象。然而，与此对应的，司法实践中集成电路布图设计侵权的认定却十分稀缺。为了更好的维护集成电路布图设计者的合法权益，加强对布图设计的法律保护，我们有必要对集成电路布图设计侵权认定进行深入研究。首先，集成电路布图设计侵权行为主要包括复制侵权和商业利用侵权。实践中，布图设计侵权认定的困难主要集中在非法复制的认定方面。对此，本文将布图设计侵权行为与其他相关知识产权侵权行为进行比较分析，力图寻找集成电路布图设计侵权行为本身的特点，从而为获得集成电路布图设计侵权的判断标准做铺垫。其次，美国是最先立法对集成电路布图设计进行保护的国家，之后日本、欧共体及国际组织也通过各种形式相继制定了集成电路布图设计保护法。本文对集成电路布图设计侵权判断标准的论述中，借鉴了美、日等其他域外司法实践的经验，对实质性相似的标准及独创性的标准进行了全面且深入的理解与分析。之后，集成电路布图设计的侵权抗辩，体现了集成电路布图设计保护体系的完善。同其他知识产权法律保护一样，集成电路布图设计保护既强调给予创作者以合理的专有权保护，同时又对专有权以合理的限制。就具体的立法规定，多数国家对其归纳了五个方面：即反向工程、合理使用、善意侵权、强制许可和权利用尽。最后，根据以上理论研究的分析，本文提出了完善我国《集成电路布图设计保护条例》的立法建议，包括提高集成电路布图设计保护的立法层次、扩大集成电路布图设计保护的范围、明确对集成电路布图设计侵权的判断标准、完善集成电路布图设计侵权责任的规定、建立集成电路布图设计侵权认定的程序，以期为完善集成电路布图设计的法律保护贡献绵薄之力。