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环境污染和能源危机是二十一世纪社会经济实现可持续发展的一大挑战。随着人口增长和城市化进程的加速,建筑能耗将持续增长。低辐射镀膜玻璃因其能反射具有太阳光热量90%的红外线和紫外线,同时对可见光有较高的透过率等特性,在建筑门窗中大量使用能极大降低建筑能耗。从膜系结构和材料成分等角度研发具有高可见光透过率、高红外线反射率、使用寿命长的低辐射薄膜,是当前研究的重难点。国外从上世纪70年代就已开始低辐射薄膜的探索,现已得到广泛应用。而我国起步较晚,技术落后,目前普通商用低辐射玻璃的光学性能较差,耐久性也亟待改善。因此,采用新材料、新工艺得到性能更加优越的光学薄膜,探索新的膜系结构,进一步提高离线低辐射玻璃的光学性能和耐腐蚀性能,加速低辐射薄膜在我国建筑中的应用和推广具有重要意义。本论文采用磁控溅射法制备了WAlN/Ag/WAl N单银低辐射薄膜。首先探索WAlN薄膜的可见光透过率和红外反射率,采用单因素变量法研究了磁控溅射工艺参数对WAlN介质层可见光透过率的影响,得出实验室条件制备WAlN薄膜的最佳工艺参数。结果表明,最佳参数制备的WAl N薄膜在可见光范围内透光率达90%以上,红外反射率约30.1%,用于低辐射薄膜介质层能起到增透减反的作用。同时,SEM表面形貌分析表明薄膜均匀致密,表面缺陷较少,能给Ag膜提供较好的保护作用。因此,WAlN薄膜具备低辐射介质层的性能要求。接下来,探索功能层Ag膜的磁控溅射制备工艺。研究了磁控溅射工艺参数对Ag膜光电性能的影响,并制备出光电性能优异的单层Ag膜。结果表明,12nm厚的单层Ag膜光电性能最优,表面电阻7.5Ω/□,在500nm处可见光透过率最大值为84.2%,人眼最为敏感的550nm处的可见光透过率为83.3%。最后,探索了WAlN介质层厚度对复合膜可见光透过率和耐腐蚀性能的影响,并制备出综合性能优异的WAlN/Ag/WAlN复合低辐射薄膜。结果表明,45nm厚的WAlN薄膜能提高复合膜的可见光透过率,并改善复合膜透光率曲线的对称性,保证舒适的视觉效果。同时,浸泡实验表明45nm厚的WAlN薄膜能给Ag膜提供较好的保护作用,腐蚀前后可见光透过率均低于4%,符合国家标准要求。采用氮化物WAlN做为低辐射薄膜的外介质层,解决了氧化物介质层在制备过程中功能层Ag膜的氧化问题。本实验所制备的WAlN(45nm)/Ag(12nm)/WAlN(45nm)单银低辐射复合膜,在波长为550nm处的可见光透过率高达83.98%,红外反射率为96.5%,标准低辐射率为0.043,浸泡前后可见光透过率低于4%,是具有高可见光透过率、高红外线反射率、使用寿命长的低辐射薄膜。