随着玻璃材料的广泛应用,其带来的眩光污染越来越严峻,不仅会损害视觉神经系统,给人们的生活带来不便,还存在安全隐患。蒙砂玻璃能够在一定程度上减少对光线的反射,但其制备研究尚停留在工艺层面,表面颗粒的形成机理长期不明,传统蒙砂方法常采用的氢氟酸（HF）溶液会对环境及人体造成巨大危害,且蒙砂玻璃功能单一,应用受到极大限制。因此,寻找有效的方法来优化蒙砂液组成,厘清防眩减反射机理,在此基础上对其进行疏水化改性、扩展应用范围成为目前亟待解决的问题。为了获得高透光率、低反射率以及表面超疏水的功能蒙砂玻璃,本论文以硅酸盐玻璃片作为基体材料,采用氟盐溶液代替HF成功制备了高透光率的防眩蒙砂玻璃,并系统研究了蒙砂液pH值、乳浊剂浓度及化学腐蚀时间对蒙砂玻璃结构和性能的影响规律,探究了蒙砂腐蚀过程的反应机理,并揭示了表面颗粒的形成机理。进一步利用聚苯乙烯（PS）微球在玻璃表面自组装形成模板,对玻璃基体预先处理后,使用优化的蒙砂液制得颗粒层均匀的蒙砂玻璃样品,并进行抛光后处理,制备出光学性能和力学性能兼具的高透蒙砂玻璃,系统研究了自主装模板及抛光时间对蒙砂玻璃结构和性能的影响规律,阐明了防眩机理。最后利用含氟疏水修饰剂1H,1H,2H,2H-全氟癸基三甲氧基硅烷（MSDS）,在基体表面枝接疏水基团,赋予材料超疏水自清洁功能。结果表明:（1）随着蒙砂液pH值减小,表面形成的盐颗粒先增多后减少,腐蚀凹坑的数量逐渐增多。随着乳浊剂浓度的增大,基体表面的氟硅酸盐含量提升,颗粒的形态从不规则的立方体逐渐向砂钟状转变,出现台阶形貌,颗粒尺寸和厚度不断增加。随着腐蚀时间的延长,玻璃表面K2SiF6、Na2SiF6等氟硅酸盐微晶颗粒的含量、尺寸和厚度不断增加,整体透光率呈快速降低再升高,最终缓慢降低的趋势。在玻璃腐蚀过程中表面颗粒层层外推生长,数量体积不断增加,符合层生长理论模型,成核长大遵循Bravais法则,粒径增长规律符合幂函数方程。当蒙砂液中乳浊剂浓度为7%,pH值为3,腐蚀时间为15 min时,采用化学刻蚀法制备蒙砂玻璃样品表面颗粒粒径达到20μm,透光率达到89%,反射率为2%。（2）蒙砂之前引入PS微球自组装模板后对基体表面进行预抛光处理,为颗粒形成长大提供成核位点,有效提高了化学腐蚀的速率,促使表面颗粒层快速形成。用优化后的蒙砂液制备蒙砂玻璃,随着腐蚀时间的延长,表面颗粒不断生长形成砂钟状,粒径保持在20 μm-30 μm,构筑蜂窝状微米层,形成陷光结构。随着抛光时间的延长,蒙砂玻璃表面的颗粒厚度从18.57 μm减小到6.67 μm,直到表面颗粒层完全抛光脱落,基体表面呈现出腐蚀凹坑形貌。当抛光20 min时,基体表面的颗粒层厚度为16.77μm,透光率达到80%,反射率为2.2%,使入射光经过折射达到透过膜的效果,实现微米结构增透减反射膜层的构建。（3）以MSDS作为主要修饰成分,甲醇为分散剂,配制疏水改性剂,分别在普通玻璃、蒙砂玻璃及抛光蒙砂玻璃三种材料上制备超疏水功能膜。随着改性剂浓度的增加,基体表面成膜性越好,疏水效果明显提升。表面粗糙度越大,越有利于疏水基团枝接。当改性剂浓度为9 mmol·L-1,基体表面粗糙度为0.8 μm,在具有台阶结构的颗粒层上,疏水基团的枝接成膜效果最佳,静态接触角达到156.6°,达到了超疏水的效果。经过300h紫外辐照老化处理,静态接触角依然维持在150°以上,且透光率为82.4%,反射率为4.12%,符合高透防眩性能标准。本论文对于优化蒙砂液组成、改善蒙砂玻璃的防眩性能、赋予其多功能以扩展应用领域进行了研究,为蒙砂玻璃工业化利用提供了新方向。