电流变抛光装置开发与抛光轨迹规划

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电流变抛光是一种新颖的抛光方法。目前研制出的电流变抛光装置在加工导体工件时,将工件作为电场一极,抛光工具作为电场的另一极。为了保证加工质量,要求两极间距保持在几微米至几十微米之间;由于间距很小,在加工中容易产生击穿现象。本文通过研究电流变抛光原理,在自行研制的电流变抛光装置上对加工工具系统进行改进,将电场两极集成在抛光工具上;通过零件反求建模建立曲面透镜的数学模型,并应用行切和环切两种走刀方式对曲面透镜进行电流变抛光轨迹规划;同时应用开发的工具系统进行多组电流变抛光实验,结果表明抛光效果良好。本文获得教育部新世纪优秀人才计划项目“微型光学非球面透镜成型模具的电流变抛光关键技术研究”与吉林省杰出青年科学研究计划项目“电流变抛光微型非球面模具的研究”(合同号:20050121)的资助。
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