提高LED光提取效率及其欧姆接触电极制备的研究

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发光二极管(Light Emitting Diode,LED)作为第三代照明光源,以其经济性、实用性及高效率等特点有望成为未来照明光源的理想方式。但就目前来说,发光二极管要作为照明光源,其发光效率还不够高。要提高LED发光效率,主要从两方面着手,一是提高其内量子效率,即提高注入电能的利用率;一是提高光提取效率,即提高LED有源层所发出光的利用率。   本文首先介绍了氮化镓(GaN)LED的发光原理及其制备工艺中的几个关键问题,如GaN基LED外延生长的衬底选择;p型GaN的掺杂;欧姆接触电极的制备等。概述了解决这些关键问题的研究进展。   介绍了目前GaN基LED芯片的主要结构类型,如传统结构、倒装结构、垂直结构等。指出了各种结构的特点及其对提高LED发光效率的影响。在以上三种主要结构的基础上,人们又提出了表面粗化、光子晶体、特形芯片等新技术,使LED发光效率逐步提高。   本文比较三种主要结构的特点,指出,就目前而言,倒装结构相比于其他结构在效率上或技术成熟度上更具优势,通过模拟计算的方法分析了倒装结构提高LED发光效率的机理,指出其原因主要是避免了p型欧姆接触电极对光子的吸收以及电极引线对光的阻挡,此外还提高了LED散热性能,从而可以提高LED内量子效率及LED的热稳定性,但并没有突破全反射效应的限制,其出光锥角并未有增大,因而对LED发光效率的提高非常有限。而实验及理论均指出,改变LED芯片传统的四方体形状,可以在LED发光效率的提高方面取得突破,本文提出了一种全新的菱形结构,通过仿真计算表明其光提取效率有大幅度提高,并分析了菱形结构中影响光提取效率的因素。   提高LED内量子效率一直是行业内研究重点,目的在于提高注入电能的利用率。通过改善外延材料晶体质量,优化外延结构可以使内量子效率有很大提高,而在芯片制备工艺上则必须制备低欧姆接触电阻的电极,以降低接触电阻功率损耗,本文通过实验研究了 n-GaN 欧姆接触电极的制备及其表面形貌的改善,并分析了 n-GaN 上欧姆接触形成的机理。
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