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纳米SiO_2以其独特的性能已广泛地应用于化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)以及涂料、橡胶、粘合剂、生物、医学、催化剂等其他众多领域。在CMP浆料制备过程中,如何解决由于颗粒微细、比表面能极高所产生的团聚问题,使纳米SiO_2浆料保持稳定分散,是纳米SiO_2在CMP加工应用中取得预期效果的重要前提。本文综合固体表面化学、胶体化学、界面化学和溶液化学等多学科基础理论知识,在对纳米粉体的分散技术与纳米SiO_2的改性技术进行归纳和总结的基础上,系统研究了