Mo基体表面制备Ir-Zr涂层的组织结构与氧化性能研究

来源 :南京航空航天大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liu_tangdanhua
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本文使用双层辉光等离子渗金属技术在Mo基体上制备Ir-Zr涂层,为了对比涂层的性能,在石墨上也制备了Ir-Zr涂层,通过与相对应基体上Ir涂层相比,发现其具有与Mo基体上的Ir-Zr涂层相近的结构。采用扫描电镜、X射线衍射等分析手段研究了Ir-Zr涂层的表面形貌和微观结构;采用原子力显微镜对涂层的粗糙度进行了测试;利用X射线光电子能谱分析了涂层的元素构成;采用纳米压痕仪和划痕仪对Ir-Zr涂层的力学性能进行了表征;采用X射线衍射技术分析了Ir-Zr涂层的残余应力;并通过氧化炉评价了涂层的氧化稳定性。通过双层辉光等离子体方法在Mo表面制取得的Ir-Zr涂层,呈多晶结构,表面均匀致密。涂层中晶粒尺寸为100nm左右,与Ir涂层的(220)择优取向相比较,Ir-Zr涂层显示了无定向生长模式。涂层的粗糙度为19.3nm,与Ir涂层的45nm相比,粗糙度明显降低,这可能是由添加的Zr元素引起,涂层厚度为5μm,由两部分组成,分析表明沿厚度方向Ir-Zr涂层以梯度的形式存在。Mo基体上Ir-Zr涂层与Mo基体的结合力约为15N,这是由于生成了ZrO2引起。Mo基体上Ir-Zr涂层的残余压应力为-0.89GPa,Ir涂层的残余拉应力为0.88GPa。Mo基体上Ir-Zr涂层的硬度和弹性模量分别为8.9GPa和397GPa。Mo基体上Ir-Zr涂层分别在600℃、800℃和1000℃下氧化,随着温度的不断增加,涂层中被破坏的程度也在不断增加,虽然氧化后涂层表面凹凸不平,且有孔洞、褶皱的形成,但是涂层与基体仍然很好的结合在一起。由于氧化过程中, Zr氧化成ZrO2,Mo生成MoO3等氧化物,因而,经高温后,涂层各元素含量也发生不同的变化,具体表现为Ir和Zr的含量不断减少,Mo和O的不断增加。
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