【摘 要】
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随着薄膜集成电路，等离子平面显示器及其他光电子器件的发展，非晶硅薄膜得到了重要的应用。加工精度的好坏和等离子体中的电子、离子密度，能量分布和平均能量等等离子体的参
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随着薄膜集成电路，等离子平面显示器及其他光电子器件的发展，非晶硅薄膜得到了重要的应用。加工精度的好坏和等离子体中的电子、离子密度，能量分布和平均能量等等离子体的参数特性有直接的关系。静电探针是最广泛用来测量等离子体特性的一种诊断工具。本文系统的介绍了静电探针测量技术。该测量技术可根据需要改变探针形状及转动探针方向，可置于等离子体反应室的任意位置，从而可测出反应室空间内的等离子体特性参数。该测量技术对等离子体应用研究具有十分重要的意义。
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