液晶显示的广泛应用已经使其取代了CRT,成为如今显示和电视设备的最主要的显示技术,丰富了人们的日常生活,并为信息的交流和传输做出了巨大的贡献。随着国内新一轮高世代生产线的相继建设投产,面对日益激烈的竞争,如何降低缺陷、提高产品的品位,这就需要对LCD制程工艺有着更高的要求。本文首先总体介绍了液晶显示的发展和现状,液晶显示器的制成流程,侧重讲述了阵列(array)的制作工艺流程和工艺设备,然后对干法刻蚀中的工艺设备进行详细说明。基于节约空间和提高效率的考虑,行业内对于金属层的刻蚀普遍采用干法刻蚀的方式,但生产节拍的加快,缺陷也随之而来。干法刻蚀中影响产品品质的主要因素为:杂质颗粒、RF电源、排气速度和真空度,其中生产节拍的加快对前两因素的影响最为重大。在上海广电NEC工厂的15-26英寸工艺设备进行实验并取得数据,绘制成趋势图,通过各种方法的结果的比对,找出了干法刻蚀的最佳条件,重点针对干法刻蚀设备中的工艺缺陷进行分析和跟踪,找出相关的对策,解决了生产中遇到的实际问题:(1)对于基板“冒烟”问题的解决对策是:对量产基板进行大批量的对比观察,找出问题的发生原因:刻蚀后除静电过程中生成物附着于装载腔室。从而进一步通过更改使用的工艺气体解决了“冒烟”问题。(2)对于刻蚀残留问题的解决对策是:1.使用DUMMY CLEAN RECEIPE对腔室进行清扫,通过对比观察,找出最合理的清扫间隔;2.选定相关的工艺设备,调整RF的输出功率,通过对比,得出比较合理的RF功率。本文的实验结果及结论已经在干法刻蚀制程中得以应用。