用PLD法在不同基片上制备YBCO薄膜的工艺研究

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该文从理论上研究了激光烧蚀靶材,等离子体羽辉在空间的运动特征,薄膜的成核与生长及镀膜的工艺参数(基片温度、靶材与基片距离 、周围氧压、激光能量密度、激光重复频率、激光波长、退火温度)对薄膜质量的影响.在实验上用脉冲激光射沉积技术(PLD)方法分别在SrTiO<,3>(100)单晶基片上{110}<211>双轴织构Ag基片上及立方织构NiO基片上制备了大量的YBCO薄膜,探索了它们的最佳实验参数.并通过X-ray衍射图、拉曼光谱散射图以及部分膜的临界电流密度(Jc值)为判据对薄膜的超导性能、结构和晶体取向进行分析,比较不同实验参数对薄膜性能及结构的影响.我们认为基片温度、靶材与基距离、激光能量密度对薄膜质量的影响较大,周围氧压、激光重复频率对薄膜质量的影响较小.
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