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NiZn铁氧体材料作为一种微波旋磁铁氧体材料,具有高的旋磁特性,低损耗、宽频率范围、高功率负荷以及良好温度稳定性等特点,广泛应用于隔离器、相移器、环形器、调制器等微波铁氧体器件。随着现代电子器件的小型化与微型化,NiZn铁氧体薄膜的应用日益广泛,如高频薄膜电感、高频薄膜变压器等。本文以射频磁控溅射法制备NiZn旋磁铁氧体薄膜为主要研究内容,通过理论分析与大量实验,针对薄膜材料的主要技术参数,分析退火温度,基片,靶材等多种因素对薄膜性能的影响,并对其微波旋磁性能进行了研究,研制既具有优异的磁性能又适合