【摘 要】
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超低压化学气相沉积(VLPCVD)设备是目前制备微电子器件材料的重要设备,在它的核心部分--反应室中,由于各种气体处于复杂的过渡流区域,所以它们之间的动力学过程,在理论上一直
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超低压化学气相沉积(VLPCVD)设备是目前制备微电子器件材料的重要设备,在它的核心部分--反应室中,由于各种气体处于复杂的过渡流区域,所以它们之间的动力学过程,在理论上一直没有得到很好地解决.该文针对该问题,研究了VLPCVD设备的空间反应过程的动力学机理,建立了其空间过程的分子气体动力学模型,基于改进型实验粒子法和直接模拟蒙特卡罗法(DSMC)两个法,对VLPCVD设备的空间反应过程进行了较成功的模拟.在VLPCVD的模拟中,要求均匀伪随机数发生器的周期长,均匀性好,不仅单步序列相关性要小,而且多维独立性也要好.该文提出了分析与评价在VLPCVD模型中选择发生器的几项指标,并对几个较好的发生器进行了优化组合,在模拟中选择了最佳的发生器,并示例了不同发生器的不同模拟结果.
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