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本文研究不同取材时间、材料处理、基本培养基、植物生长调节物质等因子对丰水梨诱导增殖、生根培养的影响。结果表明：采集5月至6月上旬新梢，用0.1％升汞对丰水梨消毒6min，接种于AS培养基附加BA 1.0mg／L、NAA 0.2mg／L、GA3 1.0mg／L以及0.1mg／L抗坏血酸，适宜于丰水梨芽启动培养及减轻褐变。扩繁以AS附加BA1.5mg／L +NAA0.1mg／L +GA3 3.0mg／L与BA1.0mg／L +NAA0.2mg／L +GA3 1.0mg／L两种培养基与植物生长调节物质组合交替使用效果较好，扩繁系数达到5-6。生根培养以ASH基本培养附加0.2mg／L NAA，效果较好，生根率达到60.0％。 研究了不同基本培养基、植物生长调节物质种类及浓度、外植体类型、叶片放置方式、暗培养时间以及乙烯抑制剂AgNO3处理等因素对于丰水梨离体再生体系建立的影响。结果表明，以继代培养28～35d试管苗第3～5节位处于生理活性期的叶片，前期暗培养21d，接种于NN69+TDZ2.0mg／L+IBA0.1mg／L，光下培养50天，叶片再生频率和再生芽数分别达到86.7％和2.92。AgNO3浓度在0.1～1.5mg／L对叶片再生有显著促进作用，能够使叶片再生频率提高30-40％，NN69+TDZ2.0mg／L+IBA0.2mg／L+AgNO3 1.0mg／L以及NN69+TDZ1.5mg／L+IBA0.3mg／L+AgNO3 0.1mg／L使丰水梨叶片再生频率均达到100％。叶片比茎段适宜作为再生材料，同一叶片的基部和中部比顶端更容易产生愈伤并再生出不定芽。叶片远轴面向下接触培养基比近轴面向下利于叶片再生。 通过对叶片预培养时间、侵染时间、共培养时间、抑菌素种类和浓度、延时筛选时间、不同选择压等影响遗传转化因素的研究，建立的丰水梨遗传转化体系为：叶片黑暗预培养3d，经农杆菌侵染3min，在含TDZ2.0mg／L、IBA0.2mg／L、AgNO3 1.0mg／L的NN69培养基上黑暗共培养3d，然后加250mg／L Cef黑暗维持培养3d，再进行Km 7.5mg／L的选择压黑暗培养至抗性愈伤出现；转为光照条件1-2次的继代筛选，获得抗性芽。实验获得了具有卡那霉素抗性的丰水梨转化植株9个株系，该抗性植株GUS组织化学染色结果表明获得了2个株系的GUS阳性植株，待进一步检测。