一直以来,以点蚀破坏为代表的局部腐蚀备受关注,但有关点蚀破坏修复方面的研究却少有报道.因而研究稳态蚀孔的再钝化行为,寻找点蚀破坏的有效修复技术,具有重要意义.该论文针对上述问题,发展了离位处理技术,讨论了影响修复效果的因素,探寻了最佳修复条件和相应的修复机理,并对原位修复技术进行了初步探索.该文首先对钝化膜的性能和点蚀破坏理论进行了系统的分析和总结,统一了有钝化膜覆盖体系的阻抗模型,探讨了点蚀稳定性条件和再钝化修复的可能途径.在此基础上,发展了使用电化学方法修复点蚀的离位处理技术——AEFR(Alternating Electrical Field Repairing)+后处理工艺.为了揭示AEFR+后处理技术对点蚀破坏金属的修复机理,该文应用交流阻抗、循环伏安等技术考察了不同处理条件下的反应动力学信息,结合能谱、红外光谱、拉曼光谱以及扫描电镜手段获得了处理前后电极表面的相关信息.在此基础上提出了修复机理可能为:电极材料表面在交变电场的周期作用下,发生着金属溶解生成金属离子(在低电位下发生)并形成水合氢氧化物、水合氢氧化物转变为金属氧化物(在高电位下发生)的循环反应,形成双层结构的钝化膜,增加了膜中Cr元素的含量;且交变电场的扰动作用破坏了蚀孔处的封闭结构,使其发生上述反应而得到修复;后处理对钝化膜的时效和封孔作用,使膜内结合水与Mo含量提高,使钝化膜孔隙率减小,进一步增加钝化膜的耐蚀性和稳定性.