纳米锡基复合半导体光催化剂降解染料废水的研究

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近年来,纳米半导体光催化技术成为研究的热点。许多研究表明,纳米半导体光催化可以降解很多持久性的有机污染物,像洗涤剂,染料,农药,挥发性有机混合物等。但是,电子和空穴的快速复合阻碍了光催化技术的推广。因此,提高半导体光催化剂在降解水中有机污染物的效率是非常必要的。本文制备了新型催化剂并对其光催化性能作了一些改进。半导体复合技术是提高半导体光催化剂光能利用效率的有效手段。在这个领域中,锡基复合半导体光催化剂的制备与使用效果的检验,在国内外文献都少见报道。本文使用简便的制备方法——共沉淀法制备了一系列的锡基复合半导体催化剂,在氙灯照射下降解酸性蓝(ACID BLUE 62)废水,考察其光催化活性。根据酸性蓝废水对光的吸收值与浓度在一定范围内符合朗伯—比耳定律,即A=εbc,故可按其测出的吸光值求出酸性蓝的浓度,由此计算出光催化降解酸性蓝的效率。通过实验,优选出了Fe2O3-SnO2和CuO-SnO2这两种催化剂,这两种催化剂具有催化效果好,酸性蓝的去除率都在95%以上。重复使用效果较好,重复使用五次,酸性蓝的去除率仍在70%以上。这对于催化剂的实际应用非常重要。通过对催化剂烧结温度的考察,得到了Fe2O3-SnO2和CuO-SnO2这两种催化剂的最佳烧结温度分别为400℃和500℃,并且使用X射线衍射仪,X射线能谱仪,透射电子显微镜和紫外漫反射等手段进行了表征,从物质结构上分析了最佳烧结温度产生的原因。对反应的其他条件,如催化剂的投加量,催化剂的掺杂量等进行了优化,得到了最佳投加量为1.0g/L,最佳活性配比为n(Fe2O3)/n(SnO2)=1/2,n(CuO)/n(SnO2)=1/1。同时也考察催化剂处理其它的模拟印染废水,混合废水,实际废水的效果,去除率也达到90%以上。通过催化剂对不同浓度的废水的降解效果,可以得到光催化对于低浓度的废水的去除率达到95%以上,适用于水的深度处理。同时本文结合实验所得的结果,探讨了光催化反应的反应动力学。结果表明,光催化反应基本遵循Langmuir-Hinshelwood定律。本文所进行的工作,可以为复合半导体纳米光催化剂在多相体系中光催化降解有机污染物,以及开发高光催化活性的非均相光催化材料提供一定的理论依据。
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