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离子印迹技术(Ion Imprinted Technique, IIT)是以特定离子为模板,制备出对目标离子具有专一识别性能的聚合物技术,在分离提纯、免疫检测、生物模拟和痕量分析领域展现出广阔的应用前景。在痕量和超痕量分析中采用离子印迹聚合物技术,使得化学分离和预富集技术获得重大突破。本文依据在硅胶微球表面修饰的分子印迹技术的基本思路,提出了一种基于硅胶表面修饰的制备离子印迹聚合物的方法,采用接枝方法,先将3-(巯丙基)三甲氧基硅烷(MPS)大分子偶合接枝到硅胶微粒表面,然后以镉离子为模板离子,以环氧氯丙烷为交联剂,通过配位键作用,制备了复合型离子印迹材料ⅡP-MPS/SiO2。考察了反应温度、反应时间和交联剂的种类等因素对产物的影响,确定了优化的合成条件。通过不同温度、时间和pH条件下,ⅡP-MPS/SiO2对Cd2+的吸附能力研究,表明在不同温度下(30～60℃),ⅡP-MPS/SiO2都具有非常高的吸附效率。同时ⅡP-MPS/SiO2在pH为4～8的条件下,吸附效果较好。吸附速率也非常快,20 min就基本可以达到吸附平衡。所以在不同水体条件下,ⅡP-MPS/SiO2都能较好的选择性去除其中的Cd2+。采用静态法研究了ⅡP-MPS/SiO2对Cd2+的结合特性,结果表明,Cd2+印迹材料ⅡP-MPS/SiO2对Cd2+具有强的记忆识别能力,主要表现在两个方面(1)对Cd2的结合量大,ⅡP-MPS/SiO2对Cd2+的吸附容量比印迹前复合材料ⅡP-MPS/SiO2提高了2倍多；(2)对Cd2+的选择性较好,相对于Ni2+、Zn2+、Cu2+和C02+,ⅡP-MPS/SiO2对Cd2+的相对选择性系数分别为26.39、23.28、1.44和32.16。另外印迹材料ⅡP-MPS/SiO2具有优良的洗脱和再生性能。