采用压缩坩埚自由空间方法提高CdZnTe晶体性能的研究

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由于CdZnTe(CZT)具有较高的平均原子序数和较大的禁带宽度,所以CZT探测器具有较大的吸收系数、较高的计数率,能在室温下工作,因而在医学、空间科学、机场、港口安检、核废料监测及其它核技术领域应用前景广阔。目前CZT探测器的广泛应用主要受到晶体性能、体积和成本等几方面的限制。因此发展新一代实用的CZT核探测器的关键还在于在CZT晶体研究上有所突破。本文从CZT晶体生长工艺的优化、掺In量对晶体性能的影响进行研究,利用改进的低压布里奇曼法,采用自主发明的双封套石英坩埚压缩坩埚中的自由空间以抑制由于Cd的蒸汽压较高造成的晶体中Cd空位和Te夹杂物密度较高的问题,初步达到了在掺In晶体中降低In掺杂量的目的,提高CZT晶体的性能,获得了适合探测器制作要求的高电阻率晶片。其主要内容和结论如下:1.优化了合成CZT多晶料的升温与降温速率,在多晶料的合成工艺中增加了摇摆工艺。对合成的多晶料进行XRD测试,没有发现Te和Zn的特征衍射峰,这说明多晶料合成比较完全,没有剩余未反应的Te或者Zn。对CZT晶体生长工艺中的生长温度、温度场的梯度、生长的速度等进行了优化改进。最终制备出的CZT晶体结构完整性好,结晶质量高,成分分布比较均匀,轴向Zn含量的最大偏差仅有2.4%,晶体利用率大于35%。2.设计了双封套石英坩埚来压缩合多晶料后的自由空间,以此来抑制CZT晶体在实际的生长过程中由于Cd组分的平衡蒸汽压较高而产生的Cd空位和富Te相等缺陷。生长了坩埚自由空间量分别占坩埚内总空间量的50%、25%、5%三种CZT晶体,研究发现:随着坩埚自由空间量的减小,CZT晶体的正电子平均寿命值从327.9ps降低到321.8ps,表明晶体的Cd组分的挥发受到抑制,晶体的Cd空位浓度及微结构缺陷减少。晶体中Te夹杂相密度从6.67×104cm-2降低到5.36×103cm-2,且Te夹杂相尺寸减小。晶体的红外透过率从42.5%升高到56%,电阻率由4.1106cm升高到5.2108cm,并且载流子(空穴)的迁移率升高到72.1cm2/Vs。这表明压缩坩埚中自由空间能够有效地降低了晶体中的Cd空位和富Te相(Te夹杂/沉淀)等缺陷的浓度,提高CZT晶体的性能。3.在压缩坩埚自由空间量为5%的条件下,探索掺In量与CdZnTe晶体性能之间的关系。发现:(1)当In掺杂量小于5×1016/cm3时,晶体呈现P型,随着In掺杂量的增大,净载流子浓度不断减小,电阻率不断增大。当In掺杂量约为5×1016/cm3时,晶体的导电类型由P型向N型转变;再继续增大In掺杂量,净载流子浓度不断增大而电阻率不断减小。并且In掺杂量的增加会降低晶体内的载流子迁移率。(2)正电子湮灭寿命谱测试表明,随着In掺杂量的增加,晶体内的Cd空位、空位团及微结构缺陷在减少。(3)随着In掺杂量的增大,Te夹杂相的密度及其尺寸有减小的微弱趋势,但晶体的红外透过率明显减小。(4)在压缩坩埚自由空间工艺下获得了CZT晶体生长的最佳In掺杂量,即当In掺杂量为5×1016cm-3时可以获得电阻率高达1.8×1010cm,载流子(电子)的迁移率则达到了187cm2/Vs CZT晶体。4.对比非压缩与压缩坩埚自由空间工艺生长的CZT:In晶体的电学性能发现:它们的电阻率、载流子浓度及其导电类型的变化规律相似。但是非压缩坩埚自由空间工艺下生长的CZT:In晶体的导电类型转变所需的掺In量在5.0×1017cm-3左右,而压缩坩埚自由空间工艺下生长的CZT:In晶体的导电类型转变所需的掺In量仅为5.0×1016cm-3左右,掺In量降低了一个数量级,而且压缩坩埚自由空间工艺下生长的CZT:In晶体的载流子迁移率也相对较高。由此可推断,通过压缩坩埚自由空间工艺可大幅度地降低CZT晶体内缺陷的补偿度,从而提高了CZT晶体的载流子迁移率。
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