本文从理论和实验两个方面讨论了高反膜的设计以及其在真空环境中的制备。 从Maxwell方程组入手，推导了薄膜的特征矩阵，建立了计算膜系内外表面电场强度和磁场强度的导纳矩阵，分别对单层及多层薄膜的反射率变化建立了理论模型。对经典的规整膜系进行优化计算后，设计出高反膜膜系。理论分析与计算结果表明，23层Ti₂O₅／SiO₂膜系是最优化的设计结果，在工作区间内能够达到理想的反射效果。此外，对薄膜的损耗问题进行了探讨，找到了降低膜层内损耗的计算公式。 我们进行了多次薄膜样品的生产实验，并对镀膜产品进行了一系列性能测试。结果表明，与传统的热蒸发镀膜工艺相比，在真空沉积过程中采用离子束辅助沉积技术，可以大大提高膜层的光学特性及膜层品质。 研究表明，以膜系设计的结果为参照，实际所镀膜层性能优异，在光纤通讯和激光领域具有广阔的应用前景。