针对实时控制节水灌溉系统的温室黄瓜土壤水分传感器合理埋设位置问题,以黄瓜博美626为试验品种,将土壤水分传感器距滴头水平距离与距滴头垂直距离结合后设定6个处理,各处理采用相同的灌溉水分上、下限,根据水分传感器测定的土壤含水率指导控制灌溉,分析不同传感器埋设处理下,夏秋茬和春茬黄瓜的生长指标、光合指标、灌水指标、品质及产量等指标,从而确定土壤水分传感器在温室黄瓜种植环境中的适宜埋设位置。研究结果如下：1.基于实时控制灌溉系统的夏秋茬黄瓜土壤水分传感器合理埋设位置研究表明：(1)根据埋设于距滴头水平距离15 cm或10 cm、距滴头垂直距离10 cm位置的传感器指导控制灌溉时,夏秋茬黄瓜的株高、茎粗、节间长和最大叶面积指标优于其它处理,且黄瓜植株的根系发达,茎叶生长繁茂,植株生长长势较好。(2)根据埋设于距滴头水平距离10 cm且距滴头垂直距离10 cm位置的传感器指导控制灌溉时,夏秋茬黄瓜的净光合速率累计值最高,且产量较高,灌溉用水量较少,果实品质较好,与其它处理相比灌溉水分生产率最高,为33.56 kg·m-3。(3)距滴头水平距离10 cm、距滴头垂直距离10 cm处具有较大的差异系数,说明该位置能敏感指示水分动态,且稳定性高,适宜埋设土壤水分传感器。2.基于实时控制灌溉系统的春茬嫁接黄瓜土壤水分传感器合理埋设位置研究表明：(1)根据埋设于距滴头水平距离10 cm且距滴头垂直距离10 cm位置的传感器指导控制灌溉时,春茬嫁接黄瓜植株的茎粗、叶面积指标较好,且地下部根系发达,茎叶生长旺盛,植株形态指标较好。(2)根据埋设于距滴头水平距离15 cm或10 cm、距滴头垂直距离10 cm位置的传感器指导灌溉时,春茬嫁接黄瓜的叶绿素含量和净光合速率较高,黄瓜的总根长、根总表面积及根系总体积均显著高于其它处理。根据埋设于距滴头水平距离10 cm且距滴头垂直距离10 cm位置的传感器指导控制灌溉时,黄瓜产量较高,灌溉用水量较少,灌溉水分生产率为38.34 kg·m-3,并且该处理黄瓜的有机酸含量最低,可溶性固形物量及可溶性糖含量最高,糖酸比最大,果实品质指标最优。(3)距滴头水平距离10 cm且距滴头垂直距离10 cm位置的土壤含水率与其它位置土壤含水率的线性相关程度最高,该传感器埋设位置可间接代表其它处理的传感器埋设位置。综合夏秋茬黄瓜和春茬嫁接黄瓜分析结果表明：节水灌溉系统中,温室黄瓜种植时将土壤水分传感器埋设于距滴头水平距离10 cm、距滴头垂直距离10 cm时,能较好的指导灌溉,在省水的同时实现黄瓜高产。