新型陶瓷先驱体的合成及相关研究

来源 :中国科学院化学研究所 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hang_925
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SiC、Si<,3>N<,4>陶瓷具有良好的高温力学性能,但其脆性限制了它们的应用.将二者结合得到的Si-C-N或引入杂元素的Si-C-N-M复相陶瓷则具有改进了韧性.有机硅先驱体聚合物热解转化法制备这类复相陶瓷的研究是当前高性能陶瓷研究的热点和新的生长点.探索新的合成路线、合成具有预定结构和良好加工性能的先驱体聚合物具有重要意义.为寻求合成Si-C-N、Si-C-N-Zr陶瓷先驱体的新途径,该论文主要进行了以下几方面的研究工作.1.研究了不同分子间Si-H、N-H的KH催化聚合反应,并合成了含有环三硅氮烷结构的低聚物,同时研究了溶剂、环硅氮烷结构对反应的影响.2.研究了(MeHSiNH)<,x>与六甲基环三硅氮烷的KN催化聚合反应.3.采用新的方法,合成了三种1,3-二氯四有机基二硅氮烷.由它们与六甲基环三硅氮烷三锂盐反应,合成了含有环硅氮烷结构的新型陶瓷先驱体,通过TGA、高温管式炉热解研究了各先驱体的陶瓷产率,并与相应的线型聚硅氮烷进行了比较.4.提出了制备纳米复合陶瓷的新方法,并采用该工作合成的先驱体聚合物作浸渍剂,具有纳米孔径的多孔Al<,2>O<,3>陶瓷作基体对这一方法进行了初步探讨.5.对由环三硅氮烷三锂盐与四氯化锆反应合成Si-C-N-Zr新型陶瓷先驱体进行了探讨,这一工作为含过渡金属元素聚硅氮烷的合成提供了新的途径.此外,结合该研究组相关课题,合成了1,3-二氯-1,1,3,3-四苯基二硅氮烷的三种新的衍生物.
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