【摘 要】
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薄膜磁阻效应是磁电子学的一个重要研究领域.具有磁阻效应的薄膜材料可广泛应用于高密度磁记录读出磁头、磁态存储器和其他各种传感器中.该文研究了NiFeCo/Ag巨磁阻(GMR)合金
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薄膜磁阻效应是磁电子学的一个重要研究领域.具有磁阻效应的薄膜材料可广泛应用于高密度磁记录读出磁头、磁态存储器和其他各种传感器中.该文研究了NiFeCo/Ag巨磁阻(GMR)合金颗粒膜的表面微观形貌、磁畴结构、相结构及其巨磁阻效应,探讨了不同成分和热处理工艺对合金GMR效应的影响.采用射频溅射方法制备由三元合金铁磁性颗粒和非铁磁性基体组成的NiFeCo/Ag颗粒膜,利用卢瑟福背散射分析(RBS)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)以及变温四探针法对薄膜结构与性能进行了研究.探讨了薄膜沉积速率的影响因素,从而总结出薄膜制备的最佳工艺.由于对NiFeCo各向异性薄膜的深入了解可以促进含NiFeCo成分的颗粒膜及多层膜的研究,该实验制备了不同溅射工艺的NiFeCo薄膜.利用变温四探针法在20K和300K之间对颗粒膜巨磁阻效应的测试研究表明,合金的巨磁阻效应不仅与热处理温度有关,还与NiFeCo成分以及测量温度有关.研究表明具有最大巨磁阻效应的NiFeCo/Ag颗粒膜中最佳NiFeCo含量为35﹪,最佳退火温度为350℃.
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