磁控溅射法制备薄膜及其性质研究

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涂层或薄膜是指附于基体上而与基体在组分或结构等方面存在着差异的薄层物质,涂层和基体所构成的整体拥有比其载体形态优越得多的功能特性。涂层的应用领域是十分广泛的,然而不论应用在什么地方,涂层与基体之间的良好结合都是涂层得以发挥其作用的基本条件。本文考察了对于金属涂层(Zr)和陶瓷涂层(ZrN),基体(45#钢)硬度不同对膜基结合力的影响。采用磁控溅射镀膜方法在所制备的三种不同硬度的45#钢表面分别涂覆Zr和ZrN涂层,利用划痕法对涂层与基体的结合力进行评价,结果表明,对于Zr和ZrN涂层而言,涂层与基体间的膜基结合力都随基体硬度的增加而近似线性增加。随着人们对器件性能要求的不断提高,对铁电材料提出了小型、轻量、可集成等更高的要求,相应地也就对铁电薄膜材料的性能提出了更高的要求。近年来一些科研工作者通过采用多层膜或超晶格的迭层途径很好地提高了铁电薄膜的性能,引起了科研工作者们的广泛兴趣。本文利用晶体结构相似、晶格匹配、应力较小的PbTiO3和PbZrO3陶瓷靶,采用射频磁控溅射法在ITO玻璃衬底上分别制备单层及多层薄膜。通过改变物料溅射顺序、溅射时间、以及溅射功率分别实现异质结构薄膜的制备。利用紫外-可见吸收光谱(UV-vis),X-射线衍射(XRD),扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)等表征方式对薄膜的结构、性能进行了分析。氮化铝(AlN)薄膜具有很多突出的物理化学性质,如高导热系数、高折射率、高光学透射比和化学稳定性好等特点,近年来倍受国内外广泛的关注。本课题使用磁控溅射法制备AlN薄膜,在石英和导电玻璃衬底上均沉积了AlN,通过能谱仪、X射线衍射仪、闪光法导热分析仪以及紫外分光光度计对制备的AlN薄膜进行性能测试。实验结果表明,在导电玻璃和石英玻璃上沉积的AlN均为非晶态,AlN薄膜改善了基体的导热性并且具有高的透光率。
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