该论文对三种代表性含氮杂环化合物(喹啉、异喹啉、吲哚)的O3/UV降解特性及毒性变化规律进行了研究。 结果表明： (1)喹啉和异喹啉表现出相同的O3/UV降解特性，而吲哚的降解特性则与它们明显不同，即喹啉或异喹啉O3/UV降解时，降解速率受UV的加入与否和pH值的高低的影响很大，而吲哚降解时，降解速率基本不受这两个因素的影响。 (2)尽管降解特性不同，喹啉、异喹啉、吲哚O3/UV降解时，在反应的初始阶段都出现了发光细菌毒性上升的现象。对毒性上升原因进行分析的结果表明，降解副产物H2O2是喹啉、异喹啉O3/UV降解时毒性上升的主要原因，而H2O2和一级降解产物则都是吲哚O3/UV降解时毒性上升的重要原因，毒性规律与降解动力学密切相关。 (3)利用“固定有机物浓度监测臭氧浓度法”(直接测定法)测得喹啉(喹啉离子)和异喹啉(异喹啉离子)与O3直接反应的二级速率常数分别为168.6M-1s-1(1.62M-1s-1)和218.6M-1s-1(5.42M-1s-1)，属于中速或慢速反应的物质；利用“竞争反应法”测得吲哚与O3直接反应的二级速率常数为3.52×106M-1s-1，比喹啉或异喹啉高4个数量级，属于快速或瞬间反应的物质。有机物与O3反应的速率常数是决定有机物O3/UV降解动力学和毒性规律的重要参数。 (4)用εHOMO和环张力这两个参数能很好地建立简单含氮杂环化合物与O3反应的速率常数的QSAR模型。 (5)O3/UV与BAS联合工艺降解喹啉时，在一定程度上能提高COD的总去除率，且在BAS降解过程中不会造成毒性的升高；降解吲哚时，COD和毒性的去除效果都很好。联合工艺有利于含氮杂环化合物毒性的控制。