TiAlN基薄膜的制备及其性能研究

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本论文通过中频脉冲非平衡磁控溅射技术制备TiAlN薄膜,考察了氮气流量对薄膜结构与性能的影响。在最优工艺基础上利用中频脉冲非平衡磁控溅射结合多弧离子镀复合技术制备了TiAlSiN薄膜,考察了Si含量对薄膜结构与性能的影响,并进一步研究了不同AlSi靶电流下沉积的薄膜的高温摩擦学性能。最后考察了Cr、Mo、V和Y元素掺杂对薄膜高温摩擦学性能的影响。主要研究结果如下:1.工艺参数(氮气含量)能够影响TiAlN薄膜的结构与性能。随着N_2流量的升高,TiAlN薄膜的沉积速率降低,Al/Ti比率先升
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