【摘 要】
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随着光学薄膜技术的不断发展，光学薄膜器件的应用日益广泛，光学薄膜的稳定性研究也被提到了极其重要的地位。为了解决大功率激光器中激光偏振膜的稳定性问题，本课题从镀膜材料特性、膜系设计、沉积工艺等方面对这一问题展开了深入的研究。 通过对影响偏振膜器件稳定性的各种因素及其物理机理的分析，提出了改善其稳定性的方法。分析了薄膜内电场分布对辐射稳定性的影响，并在此基础上，设计了低损耗的激光偏振膜；从温度场
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随着光学薄膜技术的不断发展，光学薄膜器件的应用日益广泛，光学薄膜的稳定性研究也被提到了极其重要的地位。为了解决大功率激光器中激光偏振膜的稳定性问题，本课题从镀膜材料特性、膜系设计、沉积工艺等方面对这一问题展开了深入的研究。 通过对影响偏振膜器件稳定性的各种因素及其物理机理的分析，提出了改善其稳定性的方法。分析了薄膜内电场分布对辐射稳定性的影响，并在此基础上，设计了低损耗的激光偏振膜；从温度场设计的角度出发，利用交替方向隐式原理编制了膜层内温度分布数值计算程序，通过计算薄膜
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