【摘 要】
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本论文工作主要是在导师指导下利用射频反应磁控溅射方法研究锐钛矿型和金红石型二氧化钛薄膜的制备及其电学和光学性质。利用拉曼光谱(Raman)、X-射线衍射(XRD)、紫外-可见
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本论文工作主要是在导师指导下利用射频反应磁控溅射方法研究锐钛矿型和金红石型二氧化钛薄膜的制备及其电学和光学性质。利用拉曼光谱(Raman)、X-射线衍射(XRD)、紫外-可见光谱(UV-vis)、原子力显微镜(AFM)、薄膜厚度和粘附性进行了分析表征。系统地研究了沉积参数主要是RF射频功率、沉积气压、沉积气体成分、基底偏压和沉积时间对二氧化钛薄膜生长的影响。然后,制备了Si-TiO2和NiMnCo-TiO2复合材料,通过这些复合材料系列电学性质的研究,验证了程氏二极层理论;最后,通过不同条件下生长的TiO2薄膜的紫外-吸收谱的研究,发现吸收光谱从紫外区红移到可见区,得到吸收峰红移是粒径的增大的原因;接着利用吸收光谱计算出TiO2薄膜的带隙宽度。
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